1.表面型半導體陶瓷電容器的等效電路
a為正常狀態下的等效電路，其中上、下兩個電容器代表上、下兩個介質層的電容；兩個箭頭表示和N型半導瓷的接觸狀態；中間部分則表示半導體瓷中尚有一定的電阻。 b和c則分別表示兩邊或一邊介質層被損壞后的不正常情況。介質層被損壞的程度不同則二極管的正、反電阻也不同，因此它并不意味著是一個常規的二極管。
2.表面型半導體陶瓷芯片半導化機理
主晶相為鈣鈦礦結構（BaTiO3)，在H2、N2氣氛下還原處理，其反應過程如下： 2BaTiO3+ H2---- 2BaTiO2.5+H2O+Vo（氧缺位），Ti4+----Ti3+ + e(電子電荷）。由于缺位的出現，恰是一個2價正離子，氧缺位在整個瓷體中均勻分布。e為電子電荷，在未激發之前它是停留在氧缺位附近Ti3+上的介穩電子，但受到電場激發之后將形成“自由”電子而參與導電。這時整個瓷片具有電子導電特性，屬于n型半導體。
3.半導體陶瓷電容在低電壓環境中出現燒熔失效問題探討
①表面介質層：半導體瓷介電容芯片起絕緣作用的介質層很薄（約20微米），芯片生產、運輸及后工序裝配過程中容易損壞介質層，造成絕緣電阻降低。
②在低的直流電場長時間作用下，半導層中氧缺位向負極板旁移動積累大量正電荷，并將和負極板間形成較高的電場強度，而電子向正極移動在正極累積大量負電荷，和正極形成較高的電場強度。當電場強度達到一定值時，它迫使介質層會向極板發射電子，而構成傳導電流。
如果介質層絕緣電阻低，介質層承受不了高的場強，電容性能進一步劣化，絕緣更低直至短路，在這個過程中產生大量熱能而使產品本體出現燒熔的現象。
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